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リソグラフィとは

ASMLの事業を支えている技術はリソグラフィ(露光技術)です。

リソグラフィとは、感光性の物質を塗布したウエハ上に、短波長の光を使って電子回路を焼き付け(露光)、感光した部分と、そうでない部分からパターンを形成する技術のことで、半導体製造工程の中でもっとも重要な技術のひとつです。

 

半導体製造工程は、シリコンの塊を直径300ミリメートル、厚さ約1ミリメートルの円形状にスライスし、「ウエハ」を切り出すところから始まります。そして、ウエハ表面の研磨、洗浄、感光剤(フォトレジスト)の塗布、露光、現像、エッチング・イオン注入、感光剤除去、ダイシング、と多岐にわたります。

その中でもリソグラフィ工程は半導体の性能を左右する、重要な技術です。半導体の性能が向上することで、わたしたちの日常に欠かせないさまざまなエレクトロニクス機器はより小さく、より安く、より高性能になってきています。

ASMLのリソグラフィ装置(露光装置)とは一体どんな装置なのでしょうか。

露光装置とは、巨大なカメラのようなものです。カメラは、被写体(人物、風景など)をレンズを通してフィルムに写します。必要な要素は、光、レンズ、フィルムです。

これらを露光装置に置き換えると、被写体である電子回路を同じような仕組みで、短波長の光を使ってシリコンウエハに転写します。カメラが人物や風景といった被写体を実物大のまま写すではなく、一定のプリントサイズに縮小されて被写体を焼き付けるように、露光装置も、マスク上に描かれた電子回路の原版をレンズを通して縮小し、ウェハ上に転写します。そのため、シリコンウエハ上には極めて微細な電子回路が焼き付けられます。

現在の最新鋭の露光装置を用いて最も細く加工できる回路の線幅は50ナノメートル(ナノメートルは、10億分の1メートル)以下というミクロの世界になります。

 

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