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ASMLの歴史

2010年    エレクトロニクス機器の需要回復と新製品の登場がASMLの追い風に

ASMLの売上高は過去最高の45億ユーロを記録しました。この背景には、タブレットPC(iPad)やスマートフォンを始めとする新たなエレクトロニクス機器の登場でエレクトロニクス産業の業績が大きく回復し、需要の増加に対応するため、ICメーカーが、従来の過少投資の方針を転換し、生産ラインの増強を図ったことが要因として上げられます。リソグラフィ装置に対する需要は電子産業のあらゆる分野で大きく、メモリメーカー、ファンドリ、ロジックメーカーの何れからも過去最高の受注を記録しています。ASMLでは、生産能力の強化を迅速に進め、工場の生産量を2009年の3倍に引き上げました。同時に、四半期ごとに500名ずつ従業員を増強し、2010年末の時点で、正規社員7,000名以上、契約社員2,000名以上、合計9,000名を超える規模となりました。

EUVプログラムも一つの節目を迎えています。ASMLの第二世代EUVリソグラフィ装置「NXE:3100」の一号機が、アジアのメモリメーカーの研究施設に出荷されました。さらに、第三世代EUV装置「NXE:3300B」については、2010年に9件の注文を受けており、2012年に出荷の予定です。

 

2009年  景気後退と回復

金融危機により世界中の国々が景気後退に陥り、過去数十年右肩上がりの成長を続けてきた世界経済も遂にマイナス成長に転じました。半導体産業も例外ではなく、ASMLでは、2009年初め、ICメーカーの設備投資がほとんど凍結されたと報告しました。これに対応するため、ASMLでは費用と従業員の削減を進めましたが、戦略的な支出は維持しました。特に、研究開発費については、業界一の技術力を守るため467百万ユーロを支出しました。

2009年半ばには、IC産業を始めとする幾つかの産業分野が回復軌道に乗り始めました。受注に回復の兆しが見え始め、ASMLでは、年初に削除した従業員の一部を再雇用することができました。平素よりビジネスモデルの堅牢性を高め、周期的な景気変動への対応力を強化してきたことが奏功し、売上の大幅な落ち込みにもかかわらず、2009年もASMLではキャッシュフローを黒字で維持することができました。

 

2008年  液浸装置が生産ラインの中核となる

2008年半ばまでにASMLが納入した液浸リソグラフィシステムは100台に達し、弊社の液浸装置のお客様の数は20社となりました。ASMLの液浸装置で露光したウエハ数は、2,000万枚近くに上り、全世界で毎月100万枚以上のウエハがASML液浸装置で処理されています。ASML液浸リソグラフィ装置は、2004年の一号機出荷以降、順調に台数を伸ばし、今や生産ラインの中核を成すまでになりました。

シングルパターニングの液浸リソグラフィの延命を図るため、ASMLは新しいTWINSCANTMシステム「XT:1950i」を発表しました。XT:1950iでは、重ね合わせ精度、解像度、ウエハ処理枚数を向上させ、液浸リソグラフィシステムの性能を25%強化しました。また、XT:1950iにより、高性能の38nmメモリデバイス、ならびに32nmロジックデバイスの量産も可能となりました。

2007年  ASML、TWINSCAN XT:1900iを出荷

ASMLは、TWINSCAN XT:1900iの一号機を出荷しました。XT:1900iは、現時点で、36.5nmのデバイスを量産できる唯一のリソグラフィシステムです。また、ASMLの300mmウエハ用i線リソグラフィシステムは、一日3,600枚近くのウエハを処理する過去最高の生産性を達成しました。

アジア地域のお客様を支援するため、ASMLは、台湾にACE(ASML Center of Excellence)を開設しました。これにより、ASMLの従業員数は総勢6,400名に増えました。

 

2006年  ASML、世界初のEUV ADTを出荷

ASMLは、2006年に266台のシステムを出荷し、この年の売上は、前年比42%の増加を記録しました。また、ASMLは、193nm ArFドライリソグラフィシステム「TWINSCANTM XT:1450」を60nm以降のデバイス量産機として発表しました。XT:1450は、32nmのダブルパターニングプロセスの開発も支援します。さらに、ASMLは、世界初の極紫外線(EUV、光源波長13.5nm)リソグラフィのアルファデモ装置(ADT)を米国ニューヨーク州アルバニーのCNSEとベルギーのルーベンにあるIMECに出荷しました。

ASMLは、急成長を遂げる計算機リソグラフィの最大手Brion Technologies社を買収しました。Brionは、リソグラフィに配慮したIC設計検証、超解像技術(RET)、光近接効果補正(OPC)などの技術を備えています。

 

2002年  ASML、最大手企業に躍進

ASMLは、光リソグラフィ分野で最大手企業に躍進し、研究開発投資を純売上の17%に引き上げました。また、ASMLは、装置所有コストならびに技術力の両面で、顧客満足度一位にランクされました。

世界各国における特定のNPOならびに教育への取り組みを支援する目的で、ASML Foundationが設立されました。

2001年  TWINSCAN投入

TWINSCANシステムの一号機がTSMC社に据え付けられました。また、反射屈折型レンズ技術を持つSVG Lithography社の買収が完了しました。これにより、ASMLが提供する製品の領域が大きく広がりましたが、半導体産業全体が深刻な不況に陥っていたため、生産ライン削減プログラムの開始を余議なくされました。

 

2000年  ASML、Silicon Valley Group(SVG)社を買収、日本市場に参入

ASMLは、Silicon Valley Group(SVG)社を買収し、これにより、世界最大の光リソグラフィ装置メーカーとなりました。2つのウエハステージの導入でウエハ処理枚数を向上させたTWINSCANTMプラットフォームが上市されました。このプラットフォームは、200mmならびに300mmウエハの何れにも適用でき、i線から193nm ArFの短波長まで対応します。Royal Philips Electronics社は、ASML株の所有率を23%から7%に引き下げました。

ASMLは、DUVとi線の数種類のスキャナービジネスで日本市場に参入しました。

 

1998年  ASML、初のArFスキャニングステッパ装置を上市

ASMLは、初のArFスキャニングステッパ装置「PAS 5500/900」を上市しました。当時の市場シェアは30%で、Dataquest社のレポートによれば、ASMLは世界第2位のステッパメーカーと位置づけされていました。さらなる自動化、ならびにPGP(Product Generation Process)の導入により、製造効率が一段と強化されました。

 

1996年  ASML、世界の半導体製造装置メーカー上位10社に

ASMLは、世界の半導体製造装置メーカー上位10社にランクされ、台湾と韓国の市場で順調に成長を続けました。また、ASMLは、ASML.comホームページを開設し、セミコン台湾で初めて展示会に参加しました。

 

1995年  ASML、アムステルダム証券取引所およびナスダック(NASDAQに上場

ASMLはIPO(新規株式公開)をアムステルダム証券取引所ならびにナスダック(NASDAC)で実施しました。フェルトホーフェンでは設備拡張工事が行なわれ、生産能力が2倍になりました。

ASMLは、世界最大のメモリメーカーに現地サービスを提供するため、韓国に2つ目の事務所を開設しました。

 

1988年  アジア進出

Philips社が台湾でファンドリ合弁事業を立ち上げたことを受け、ASMLは、アジア市場への進出に動き出しました。米国では、当初、アリゾナ州テンピに数人従業員がいただけでしたが、この時までに全米5拠点で84名の従業員を雇用するまでに成長していました。

 

1987年  ASML、初のi線システム

ASMLは、初のi線(365nm近紫外線)ステッパ「PAS 2500/40」を上市しました。PAS 2500/40により、0.7ミクロンのデバイス製造が可能となり、上市時点では、最も生産性の高い装置でした。

 

1984年  ASML設立

ASMLは、Philips社とASMI(Advanced Semiconductor Materials International)社がそれぞれ50%ずつ出資する合弁会社として設立されました。当初は、オランダのアイントホーフェンにあるPhilips社の工場の一つに隣接する木造建屋にその拠点を置いていました。

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