关于ASML
光刻技术的领导者
你所不知的世界上最重要的科技公司
ASML是半导体行业的创新领导者。 我们提供涵盖硬件、软件和服务的全方位光刻解决方案，帮助芯片制造商在硅晶圆上批量“刻”制图形。
成立
员工
国籍
办事处分布于16个国家/地区
愿景和使命
我们相信技术可以成为推动世界发展的力量。
我们的愿景是：半导体技术无处不在，并能帮助人类解决社会所面临的一些最严峻的挑战。 我们通过创造持续使客户增值并降低芯片制造成本的产品及服务，来为这一愿景做出贡献。
我们的团队
做有意义的工作
成为科技公司的一分子, 成为影响世界的力量
技术是一种向善的力量。 它将我们联系起来并改变了我们的生活，工作和娱乐方式。 而这一切的核心正是ASML。 因为我们的光刻系统，您每天使用的大多数电子设备才得以存在。
我们为全球顶尖的芯片制造商提供创造高性能、低成本半导体芯片的一切。 简而言之: 我们是支撑行业领导者的行业领导者。 我们的总部位于欧洲最大的技术枢纽，有着智慧之城美誉的荷兰埃因霍温。我们的业务遍布欧洲，亚洲和美国。
在ASML工作
成为全球合作的一部分，这里的工作环境充满创新，多元和活力。
我们鼓励你提出最棒的想法并付诸实践。 你在自己的工作领域中将拥有自由，信任和支持，协助你去尝试并解决复杂的挑战。 当你不断地开拓和创新，工作将会变得非常有趣。
尽管我们处在科技前沿的快节奏环境中，但公司十分重视你的工作与生活的平衡和健康。我们的理念是，员工好公司才会好。
我们的技术
微影世界的一大步
光刻，即使用光在晶圆上印制微小的图形，是批量生产计算机芯片的基础步骤
光刻的工作原理
光刻系统本质上是种投影系统。光被投射透过将要被印制的蓝本图形（也称为“光罩” 或“掩膜板”）。 光罩上的图形尺寸是芯片上实际印制图形的四倍。 图形被编码在光里后，光刻系统的光学器件会把它缩小并聚焦到感光硅晶圆上。 图形被印制后，系统略微移动晶圆，随后进行下一次图形的印制。
EUV 光刻
ASML是目前世界上唯一使用极紫外光的光刻机制造商。为了驾驭极紫外光的力量并将EUV光刻技术推向市场，ASML持续投入研发超过20年，应对不断出现的高难度技术挑战。
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当前，我们正在研发更大数值孔径(0.55)的下一代EUV系统(High-NA)。该系统具有新颖的光学设计和高速运作的工作台。它将在未来十年内实现几何芯片的微缩，其在分辨率和套刻精度上的性能表现将比我们目前的EUV系统高70%。
DUV 光刻
我们的DUV（深紫外线）系统是业界的“主力军”，提供浸润式和干式光刻解决方案，帮助制造各种半导体节点和技术的芯片。
我们的浸润式和干式光刻系统在产能、成像和套刻精度这三方面处于行业领先地位，在大规模量产最先进的逻辑和存储芯片中表现卓越。
量测与检测
我们的量测解决方案可以快速测量硅片的成像性能，并实时将数据反馈到光刻系统中，帮助在大规模芯片量产中保持光刻性能的稳定。我们的缺陷检测解决方案帮助定位和分析数十亿印制图形中的单个芯片缺陷。
软件
若说我们创新的硬件设备是蝙蝠侠，那我们的软件就是它的罗宾。尽管ASML常被归类为硬件公司，但实际上我们是世界上最大、最先进的软件公司之一。如果没有我们研发的软件，我们的光刻系统就不可能制造出如此微影的芯片。
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如今，我们的光刻系统是高科技硬件和先进软件的高度结合体。我们的研发团队投身于广泛的编码实践中，为影响电子行业核心芯片制造系统的复杂问题提供创新的解决方案。